一种厄他培南钠的合成方法
授权
摘要
本申请属于药物合成技术领域,尤其涉及一种厄他培南钠的合成方法。本申请提供了一种厄他培南钠的合成方法,包括以下步骤:在碱、催化剂和氢气气氛的条件下,将式1所示化合物与混合溶剂混合进行氢化反应,过滤得到产物溶液,乙酸乙酯萃取提纯,水相调节pH值至4~7,得到酸性产物溶液;于所述酸性产物溶液中加入逼晶溶剂进行析晶,得到厄他培南钠;所述厄他培南钠具有式2所示结构。本申请提供了一种厄他培南钠的合成方法,有效解决现有厄他培南合成方法中存在的需要进行繁琐的后处理,产能小,产品重金属残留高,纯度差的技术问题。
基本信息
专利标题 :
一种厄他培南钠的合成方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114105988A
申请号 :
CN202210076557.8
公开(公告)日 :
2022-03-01
申请日 :
2022-01-24
授权号 :
CN114105988B
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
姜能江林楠棋欧军王东幸志伟孙万鹏
申请人 :
深圳市海滨制药有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市盐田区沙头角深盐路2003号
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
黄忠
优先权 :
CN202210076557.8
主分类号 :
C07D477/08
IPC分类号 :
C07D477/08 C07D477/20
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D477/00
杂环化合物,含有1-氮杂二环庚烷环系,即含下式环系的化合物:,例如碳代青霉素,沙纳霉素;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D477/02
制备
C07D477/06
由已含环或稠合环系的化合物,例如通过环的脱氢化、取代基的引入、消除或修饰
C07D477/08
直接连在位置2的羧基的修饰,例如酯化
法律状态
2022-04-29 :
授权
2022-03-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 477/08
申请日 : 20220124
申请日 : 20220124
2022-03-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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