多层微观结构、微过滤筛装置的制备方法及相应制备装置
实质审查的生效
摘要

本发明公开了多层微观结构、微过滤筛装置的制备方法及相应制备装置。所述多层微观结构的制备方法为:被准直扩束的飞秒激光聚焦到载有待光刻的光刻胶的硅基底上,硅基底作为反射界面产生反射光束,并与硅基底上的入射光束发生自干涉,形成双光子聚合焦点;当入射光束为高斯分布,双光子聚合焦点产生在所述光刻胶与硅基底界面附近,总光强达到最强,在焦点附近的所述光刻胶的聚合物同时吸收两个光子发生光致聚合反应,形成与干涉光场光强分布相似的固化点;驱动硅基底带动所述光刻胶移动,使所述光刻胶上的固化点积累成型。本发明利用光束自干涉激发双光子聚合反应,形成可调节的具有亚微米尺度的三维多层结构。

基本信息
专利标题 :
多层微观结构、微过滤筛装置的制备方法及相应制备装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326331A
申请号 :
CN202210090979.0
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2022-01-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张晨初王进
申请人 :
合肥工业大学
申请人地址 :
安徽省合肥市包河区屯溪路193号
代理机构 :
合肥市泽信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
方荣肖
优先权 :
CN202210090979.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20220126
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332