高光学纯度左氧氟沙星的制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种制备高光学纯度左氧氟沙星的方法。所述方法为，将光学异构体较高的左氧氟沙星溶解于DMSO中，然后滴加水析晶，高温过滤，得到光学异构体在0.1％以下的左氧氟沙星，收率为70％。
基本信息
专利标题 ：
高光学纯度左氧氟沙星的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114507242A
申请号 ：
CN202210095280.3
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2022-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
汪平中徐赛珍黄伟平苏磊马银袁胜鑫
申请人 ：
上虞京新药业有限公司
申请人地址 ：
浙江省绍兴市杭州湾上虞经济技术开发区纬三路31号
代理机构 ：
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 ：
黄美娟
优先权 ：
CN202210095280.3
主分类号 ：
C07D498/06
IPC分类号 ：
C07D498/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D498/00
杂环化合物，在稠环系中至少有1个杂环具有氮和氧原子作为仅有的杂环原子
C07D498/02
在稠环系中含有两个杂环
C07D498/06
迫位稠合系
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 498/06
申请日 : 20220126
申请日 : 20220126
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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