一种研磨机排污废液分离处理的方法
公开
摘要
本发明涉及半导体废水处理技术领域。一种研磨机排污废液分离处理的方法，包括如下步骤：步骤一，将废水原液池中的废水原液送至第一反应池加入氯化钙调节PH至偏碱；步骤二，后进入第二反应池加入聚合氯化铝；步骤三，后进入第三反应池加入聚丙烯酰胺；步骤四，后进入沉淀池，沉淀池溢流进入低温蒸馏设备进行蒸馏；步骤五，低温蒸馏设备蒸馏上清液，清液COD＜1000，排入废水系统；步骤六，蒸馏产生的浓缩液排入废水原液池重新进入循环。本方法通过循环沉淀蒸馏，避免了传统蒸馏工艺中高浓度浓缩液的产生，将高浓度物质分离为固体污泥。调节，反应(聚合氯化铝PAC、聚丙烯酰胺PAM)，沉淀，低温蒸馏，低COD上清液(＜1000)进入公司废水站研磨系统处理。
基本信息
专利标题 ：
一种研磨机排污废液分离处理的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114620875A
申请号 ：
CN202210104883.5
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-01-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吴飞祥吴永川施凯华
申请人 ：
上海中欣晶圆半导体科技有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区山连路181号1幢
代理机构 ：
上海申浩律师事务所
代理人 ：
赵建敏
优先权 ：
CN202210104883.5
主分类号 ：
C02F9/10
IPC分类号 ：
C02F9/10 C02F1/66 C02F1/56 C02F1/52 C02F1/04 C02F11/122 B01D36/04 C02F103/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/08
至少有一个物理处理步骤
C02F9/10
热处理
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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