一种中频真空电弧弧后击穿机理的模拟计算方法和装置、电子设...
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种中频真空电弧弧后击穿机理的模拟计算方法和装置、电子设备,属于真空电弧弧后击穿机理分析技术领域,所述方法包括:计算金属液滴迁移过程中释放的金属蒸气的空间分布;根据金属蒸气的空间分布,对金属蒸气的密度和速度进行初始化,预设宏粒子;计算空间电荷及电流密度分布;依据所述空间电荷和电流密度分布,计算电势分布和电场分布,并更新宏粒子中正离子和电子的相空间位置;若未形成导电通道,判定是否达到最大迭代次数;若未达到最大迭代次数,返回执行计算空间电荷及电流密度分布的步骤;若已达到最大迭代次数或已形成导电通道,输出中频真空电弧弧后现象计算结果。通过本发明公开的方法,能够对中频真空电弧弧后击穿机理进行深入解析。

基本信息
专利标题 :
一种中频真空电弧弧后击穿机理的模拟计算方法和装置、电子设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114492057A
申请号 :
CN202210112274.4
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
蒋原李擎苗磊肖成勇蔺凤琴栗辉崔家瑞万春秋杨旭贾永楠冯涛王恒李希胜
申请人 :
北京科技大学;北京科技大学顺德研究生院
申请人地址 :
北京市海淀区学院路30号
代理机构 :
北京市广友专利事务所有限责任公司
代理人 :
张仲波
优先权 :
CN202210112274.4
主分类号 :
G06F30/20
IPC分类号 :
G06F30/20  G06F30/25  G06F111/08  G06F113/08  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/20
设计优化、验证或模拟
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/20
申请日 : 20220129
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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