基板污染物分析装置及基板污染物分析方法
实质审查的生效
摘要
本发明的基板污染物分析装置，作为接受引入的半导体制造工艺中的监控晶圆并进行气相沉积之后，将利用扫描喷嘴扫描所述监控晶圆的样品溶液通过流路从所述扫描喷嘴移送到分析器为止，以所述分析器进行分析的基板污染物分析装置，其特征在于，包括：再生单元，为了再利用完成所述扫描的所述监控晶圆，利用至少包括酸系列或碱系列的化学品的溶液处理所述监控晶圆。
基本信息
专利标题 ：
基板污染物分析装置及基板污染物分析方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114464546A
申请号 ：
CN202210114028.2
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2016-03-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田弼权丘大焕朴准虎朴相绚成墉益
申请人 ：
非视觉污染分析科学技术有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道龙仁市
代理机构 ：
北京聿宏知识产权代理有限公司
代理人 ：
吴大建
优先权 ：
CN202210114028.2
主分类号 ：
H01L21/66
IPC分类号 ：
H01L21/66 H01L21/67 G01V8/10 G01B7/14
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/66
申请日 : 20160310
申请日 : 20160310
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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