一种反渗透膜硅垢清洗剂及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种反渗透膜硅垢清洗剂及其制备方法，按质量百分比计包括：有机酸清洗剂占比为10％—25％，增效剂占比为3％—5％，分散剂占比为1％—5％，缓蚀剂占比为0.2％—0.3％，表面活性剂占比为2％—5％，余量为去离子水。本发明反渗透膜硅垢清洗剂以有机酸清洗剂、增效剂、分散剂、缓蚀剂及表面活性剂为主要成分，能够有效去除反渗透膜表面硅垢，且不造成二次污染，不损坏膜元件，并使膜通量能得到有效恢复。其中分散剂可使膜表面硅垢得到疏松、软化，协同表面活性剂可促使硅垢污染物从膜元件上快速脱落，使得清洗效率大大提高。
基本信息
专利标题 ：
一种反渗透膜硅垢清洗剂及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114504948A
申请号 ：
CN202210147290.7
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2022-02-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
学贤苏凤英陈俊祥邵兰燕温联河
申请人 ：
厦门嘉戎技术股份有限公司
申请人地址 ：
福建省厦门市厦门火炬高新区（翔安）产业区翔岳路4号之9
代理机构 ：
福建如浩律师事务所
代理人 ：
林俊红
优先权 ：
CN202210147290.7
主分类号 ：
B01D65/02
IPC分类号 ：
B01D65/02 B01D65/06
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D65/00
用于一般半透膜分离方法或设备的辅助设备或辅助操作
B01D65/02
膜的清洗或消毒
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 65/02
申请日 : 20220217
申请日 : 20220217
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
