一种用于化学机械抛光的硅溶胶活性磨粒及制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种用于化学机械抛光的硅溶胶活性磨粒，所述硅溶胶磨粒具有非球状外形，且所述硅溶胶磨粒包含具有化学活性的二氧化锰化合物。本发明提供的一种用于化学机械抛光的硅溶胶活性磨粒及制备方法，该硅溶胶磨粒具有非球状外形，且外表面包含具有化学活性的二氧化锰化合物；可以显著提高蓝宝石的抛光效率。
基本信息
专利标题 ：
一种用于化学机械抛光的硅溶胶活性磨粒及制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114525108A
申请号 ：
CN202210153149.8
公开（公告）日 ：
2022-05-24
申请日 ：
2022-02-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
雷红陈怡张佰春董越雷逸凡杨小强周代圆陈巍巍
申请人 ：
太仓硅源纳米材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市太仓市浮桥镇浏家港协鑫西路26-1号
代理机构 ：
北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张丽娜
优先权 ：
CN202210153149.8
主分类号 ：
C09K3/14
IPC分类号 ：
C09K3/14 C09G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K3/00
不包含在其他类目中的材料
C09K3/14
防滑材料；研磨材料
法律状态
2022-06-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09K 3/14
申请日 : 20220218
申请日 : 20220218
2022-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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