一种高斯光束的整形装置
授权
摘要

本公开涉及一种高斯光束的整形装置,该装置采用正焦距透镜对高斯光束进行整形,在正焦距透镜的基础上通过真空组件的设置,使焦点聚集在真空环境中,由于真空环境中没有空气的干扰,不会造成空气的电离,进而提高了整形装置的整形效果和使用寿命。同时,在上述基础上还加入高透膜、消光装置、散热装置等组件,进一步提高了整形装置的性能。本公开的装置具有更好的高斯光束整形效果、同时制造工艺简单、适用于批量生产,且安全性能更好、适用寿命更长。

基本信息
专利标题 :
一种高斯光束的整形装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114217448A
申请号 :
CN202210156107.X
公开(公告)日 :
2022-03-22
申请日 :
2022-02-21
授权号 :
CN114217448B
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
吴轩冉昌林蔡汉钢雷波
申请人 :
武汉逸飞激光股份有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号武汉未来科技城龙山创新园一期C1栋1101室
代理机构 :
北京云嘉湃富知识产权代理有限公司
代理人 :
程凌军
优先权 :
CN202210156107.X
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2022-06-10 :
授权
2022-04-08 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/09
申请日 : 20220221
2022-03-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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