高光渲染方法、装置、计算机设备及存储介质
公开
摘要
本公开提供了一种高光渲染方法、装置、计算机设备及存储介质，其中，该方法包括：获取目标对象的三维模型，以及所述三维模型对应的材质贴图和高光形状贴图；其中，所述高光形状贴图用于描述所述目标对象进行高光渲染时的高光形状，所述材质贴图用于描述所述目标对象的各个部位的组成材质是否反光；基于与所述三维模型对应的光照方向和所述三维模型对应的摄像机方向，确定所述三维模型对应的初始高光渲染模型；基于所述材质贴图、所述高光形状贴图以及所述初始高光渲染模型，确定目标高光渲染模型，并基于所述目标高光渲染模型进行高光渲染。
基本信息
专利标题 ：
高光渲染方法、装置、计算机设备及存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114581592A
申请号 ：
CN202210158152.9
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-02-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
冷晨
申请人 ：
北京大甜绵白糖科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区海淀北二街10号05层0505
代理机构 ：
北京中知恒瑞知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
袁忠林
优先权 ：
CN202210158152.9
主分类号 ：
G06T15/50
IPC分类号 ：
G06T15/50 G06T15/80 G06T7/90
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T15/00
3D图像的加工
G06T15/50
发光效果
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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