一种调整粉末浓度分布的宽带送粉喷嘴
公开
摘要
本发明属于激光熔覆领域，具体涉及一种调整粉末浓度分布的宽带送粉喷嘴，包括喷嘴本体，所述喷嘴本体上设置用以送粉的粉末流道，所述喷嘴本体上设置扰流机构，所述扰流机构包括扰流件和扰流驱动器，所述扰流件的位置与粉末流道相对应，所述扰流驱动器用以驱动扰流件在粉末流道截面上活动，以调整粉末流道的流通截面大小。本发明提供了一种调整粉末浓度分布的宽带送粉喷嘴，用于实时匹配激光熔覆中可变宽带光斑，能有效提高激光熔覆生产效率，降低生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种调整粉末浓度分布的宽带送粉喷嘴
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114574853A
申请号 ：
CN202210170977.2
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-02-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈智君张群莉姚建华王欣阳
申请人 ：
浙江工业大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市拱墅区潮王路18号浙江工业大学
代理机构 ：
杭州浙科专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴昌榀
优先权 ：
CN202210170977.2
主分类号 ：
C23C24/10
IPC分类号 ：
C23C24/10 B33Y30/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆（熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00；固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
C23C24/10
覆层中临时形成液相的
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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