对脉冲光束的光谱特性的控制
公开
摘要
本公开的实施例涉及对脉冲光束的光谱特性的控制。由光源产生的脉冲光束的光谱特征由一种方法来控制。该方法包括以脉冲重复率产生脉冲光束；将脉冲光束导向光刻曝光装置中接收的衬底，以使衬底暴露于脉冲光束；当脉冲光束曝光衬底时，修改脉冲光束的脉冲重复率。该方法包括确定对脉冲光束的光谱特征的调整量，该调整量补偿脉冲光束的光谱特征的变化，该变化与脉冲光束的脉冲重复率的修改相关。该方法包括在曝光衬底时，通过所确定的调整量来改变脉冲光束的光谱特征，从而补偿光谱特征的变化。
基本信息
专利标题 ：
对脉冲光束的光谱特性的控制
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114563929A
申请号 ：
CN202210193641.8
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2017-10-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
W·E·康利E·A·梅森J·J·索内斯
申请人 ：
西默有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
王茂华
优先权 ：
CN202210193641.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/66 H01S3/00 H01S3/08 H01S3/106 H01S3/11 H01S3/136 H01S3/137
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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