本发明涉及陶瓷砖技术领域，尤其涉及一种中、低光泽的陶瓷砖制备工艺及陶瓷砖，包括如下步骤：S1.将有机溶剂、硅酸四乙酯、甲基三乙氧基硅烷、表面活性剂、水和酸催化剂按比例混合，于15‑60℃条件下搅拌反应6‑12小时，得到镀膜溶胶；S2.在高光泽陶瓷砖的保护釉层上涂覆所述镀膜溶胶，升温至透明保护釉层的玻璃化转变温度进行退火定型，得到中、低光泽的陶瓷砖。通过在陶瓷砖的保护釉层表面增设了增透膜层，使透明保护釉层反射光减小、透光率增大，在降低透明保护釉层反射眩光的同时，增加其透明度，提升陶瓷砖的图案、纹理清晰度和质感，同时不影响瓷砖表面的光滑质感和表面粗糙度，满足更高的装饰需求。