用于193nm水浸式光刻的聚合物树脂、抗水涂层组合物、抗...
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摘要
本发明公开了一种用于193nm水浸式光刻的聚合物树脂、抗水涂层组合物、抗水涂层及其制备方法，所述聚合物树脂是将含六氟叔丁醇基团的丙烯酸酯单体、含全氟链丙烯酸酯的单体以及含三氟甲基磺酰胺基团的丙烯酸酯单体三元共聚得到。全氟烷基链的引入提高疏水性的同时增加了树脂的接触角性能和抗刻蚀能力，三氟甲基磺酰胺基团和六氟叔丁醇基的引入使树脂有了更好的碱溶性；采用本发明聚合物树脂制备的抗水涂层组合物，不仅可以通过改变共聚物单体比例来匹配不同的193nm光刻胶，而且能得到线条良好的图案；采用本发明涂层树脂组合物制备的抗水涂层可有效避免浸没式光刻工艺中光刻胶中酸性物质的浸出，并在显影时自动去除，有利于简化光刻工艺。
基本信息
专利标题 ：
用于193nm水浸式光刻的聚合物树脂、抗水涂层组合物、抗水涂层及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114262416A
申请号 ：
CN202210200842.6
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2022-03-03
授权号 ：
CN114262416B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
李永斌何龙龙
申请人 ：
甘肃华隆芯材料科技有限公司
申请人地址 ：
甘肃省白银市白银区兰包路333号（08）5幢1-01（孵化器基地）科研一号楼306室
代理机构 ：
甘肃省知识产权事务中心代理有限公司
代理人 ：
赵红红
优先权 ：
CN202210200842.6
主分类号 ：
C08F290/06
IPC分类号 ：
C08F290/06 C08F220/28 C08F220/38 C09D151/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F290/00
由单体接到引入脂肪族不饱和端基或侧基而改性的聚合物上而得到的高分子化合物
C08F290/02
接到引入不饱和端基而改性的聚合物上
C08F290/06
包含在C08G小类中的聚合物
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08F 290/06
申请日 : 20220303
申请日 : 20220303
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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