超导腔真空密封法兰、射频超导腔及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种超导腔真空密封法兰、射频超导腔及其制备方法，包括如下部件：密封法兰本体，所述密封法兰本体的密封面为刀口密封面；过渡转接，其为管状结构，所述过渡转接的外壁与所述密封法兰本体的环形空腔内壁固定连接，内壁与射频超导腔本体的端部外壁固定连接。该射频超导腔所采用的真空密封法兰，可以显著降低密封结构的制作成本，并提高射频超导腔的真空密封可靠性，提高射频超导腔的装配效率。
基本信息
专利标题 ：
超导腔真空密封法兰、射频超导腔及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114449725A
申请号 ：
CN202210230629.X
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2022-03-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王若旭徐孟鑫何源刘通张升学刘鲁北蒋天才黄玉璐李春龙王志军
申请人 ：
中国科学院近代物理研究所
申请人地址 ：
甘肃省兰州市南昌路509号
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
任文娟
优先权 ：
CN202210230629.X
主分类号 ：
H05H7/20
IPC分类号 ：
H05H7/20
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H05H 7/20
申请日 : 20220309
申请日 : 20220309
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
