层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新...
实质审查的生效
摘要
本发明涉及层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法。一种层积体，其具有隔膜和固定于所述隔膜的表面的至少1个区域的电解用电极，所述隔膜的表面上，所述区域的比例超过0％且小于93％。
基本信息
专利标题 ：
层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114540853A
申请号 ：
CN202210236925.0
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2018-03-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
船川明恭角佳典蜂谷敏德古池润
申请人 ：
旭化成株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李洋
优先权 ：
CN202210236925.0
主分类号 ：
C25B9/23
IPC分类号 ：
C25B9/23 C25B9/19 C25B11/02 C25B11/03 C25B13/02 C25B13/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25B
生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备
C25B9/23
包括离子交换膜，电极材料嵌入在离子交换膜中或离子交换膜上
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25B 9/23
申请日 : 20180322
申请日 : 20180322
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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