一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法
公开
摘要
本发明提供了一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法，包括有以下步骤：在反应池中投放三氯化铁、液碱以及聚丙，调节PH7.8‑8.5经过反应池进行反应、搅拌、絮凝；将反应池的溶液进行搅拌；将搅拌后的反应液放入沉淀池进行沉淀；将反应液进入过滤池进行过滤。通过本申请的方法相同量的三氯化铁与传统的氯化镁去除高盐印染废水中的二氧化硅基本一致，但是市场上三氯化铁单价远低于氯化镁的价格，且在实验的过程中使用氯化镁需要将PH调节得更高，即液碱的使用量较多，成本高，而本申请的方式相对氯化镁不需要将PH调节得较高，液碱的使用量较少，并且处理后的硬度更低，处理效果较好，可有效的降低企业处理的成本。
基本信息
专利标题 ：
一种高盐印染废水去除二氧化硅的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114573141A
申请号 ：
CN202210241924.5
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
姚颖梁跃施张良军区增辉钱原铬孔柱文林云烨
申请人 ：
佛山市佳利达环保科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市三水工业园区大塘园兴唐路10号
代理机构 ：
东莞卓为知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汤冠萍
优先权 ：
CN202210241924.5
主分类号 ：
C02F9/04
IPC分类号 ：
C02F9/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/04
至少有一个化学处理步骤
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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