非球面薄膜溅镀系统
公开
摘要
本发明公开一种非球面薄膜溅镀系统，其包括真空腔体、靶材与多轴式自动驱动装置。靶材与多轴式自动驱动装置位于真空腔体中。溅镀电源于真空腔体中形成电浆，并用电浆溅镀靶材，从而形成溅镀粒子。多轴式自动驱动装置上设有待溅镀物，待溅镀物具有朝向靶材的非球面。非球面具有待溅镀点，待溅镀点的切线与直线段互相垂直，直线段连接于待溅镀点与靶材之间。多轴式自动驱动装置根据待溅镀点对应的非球面方程式，在固定直线段的长度的前提下移动待溅镀物，以利用溅镀粒子于非球面上形成均匀薄膜，从而避免非球面透镜上的膜厚不均的问题。
基本信息
专利标题 ：
非球面薄膜溅镀系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114606468A
申请号 ：
CN202210242241.1
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
白文宾麦宏全林咏翔柯泰年
申请人 ：
业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;业成光电（无锡）有限公司;英特盛科技股份有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市高新区西区合作路689号
代理机构 ：
成都希盛知识产权代理有限公司
代理人 ：
芶雅灵
优先权 ：
CN202210242241.1
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/50 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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