用于电容薄膜规的压力测量系统、方法及电容薄膜规
授权
摘要

本申请涉及电容薄膜规技术领域,具体提供了用于电容薄膜规的压力测量系统、方法及电容薄膜规,其包括:膜片;陶瓷基体,设置在膜片一侧;固定电极组,设置在陶瓷基体靠近膜片的端面上,用于根据其与膜片的距离生成测量电容信息;多个形变检测电极,设置在陶瓷基体上,且圆周阵列在固定电极组外侧,分别用于根据其与膜片的距离生成对应的检测电容信息;控制器,与固定电极组和形变检测电极电性连接,用于获取检测电容信息,还用于根据检测电容信息检测膜片形变是否均匀,还用于在膜片形变均匀时,获取测量电容信息并根据测量电容信息计算压力值;有效地提高了用于电容薄膜规的压力测量系统测量压力的稳定性、准确性和可靠性。

基本信息
专利标题 :
用于电容薄膜规的压力测量系统、方法及电容薄膜规
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114323355A
申请号 :
CN202210251300.1
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2022-03-15
授权号 :
CN114323355B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
刘乔郭可升王凤双卫红侯少毅黄星星胡强
申请人 :
季华实验室
申请人地址 :
广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
代理机构 :
佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
许家裕
优先权 :
CN202210251300.1
主分类号 :
G01L1/04
IPC分类号 :
G01L1/04  G01L9/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L1/00
力或应力的一般计量
G01L1/04
通过测量量规的弹性变形,例如,弹簧的变形
法律状态
2022-06-03 :
授权
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01L 1/04
申请日 : 20220315
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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