一种新型碳化铬涂层及其制备方法
公开
摘要
本发明属于新材料技术领域，且公开了一种新型碳化铬涂层，该所述碳化铬涂层中Cr元素的原子百分比为60～90％，C元素的原子百分比为40～10％，且碳化铬涂层厚度为0.2～30μm，表面显微硬度为6～24GPa。本发明采用碳化铬靶材与铬金属靶进行共溅射，通过分别调控两种靶的数量和溅射功率来调节涂层中元素比例，得到元素含量适当的Cr‑C二元硬质涂层，可制备铬/碳原子比为1.5：1到9：1之间的特定成分，涂层成分精准、组织致密；打底层到碳化铬为梯度结构，结合强度高；涂层中不含单质碳相，抗高温氧化性能好；涂层不含氢元素，可避免氢脆带来的不利影响；适用于钢、高温合金、钛合金和锆合金等有色金属以及氮化铝和氧化铝等陶瓷基材的防护，具有良好的应用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种新型碳化铬涂层及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114574802A
申请号 ：
CN202210254139.3
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
钱旦王轩朱晓东王永静王大伟陈亚奇李雁淮宋忠孝
申请人 ：
西安交通大学
申请人地址 ：
陕西省西安市碑林区太乙路街道咸宁西路28号
代理机构 ：
北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汤镇宇
优先权 ：
CN202210254139.3
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C14/06 C23C14/16 C23C14/18 C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
