一种薄膜晶体管及其制备方法、显示面板、显示装置
公开
摘要
本申请提供了一种薄膜晶体管及其制备方法、显示面板、显示装置，薄膜晶体管包括有源层、源极、漏极和栅极，栅极包括层叠设置的铝合金层和辅助层，辅助层的材料选自TiN或Ti，辅助层的厚度为10nm‑60nm。本申请提供薄膜晶体管，具有低电阻且无hillock问题的栅极，从而有利于提高显示面板和显示装置的显示性能。
基本信息
专利标题 ：
一种薄膜晶体管及其制备方法、显示面板、显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114613855A
申请号 ：
CN202210259414.0
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
赵坤宁策李正亮胡合合姚念琦黄杰贺家煜李菲菲
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘继富
优先权 ：
CN202210259414.0
主分类号 ：
H01L29/49
IPC分类号 ：
H01L29/49 H01L29/423 H01L29/786 H01L21/336 H01L27/12
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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