一种DIC散斑制备方法及金属材料微区局部应变表征方法
公开
摘要
本发明公开了一种DIC散斑制备方法及金属材料微区局部应变表征方法。所述DIC散斑制备方法包括以下步骤，将样品待测面抛光至表面光亮无划痕；将样品放置到扫描电镜中，通过电子束轰击样品的方式在样品表面轰击出均匀清晰的散斑，即得到用于测量材料局部应变分布特征的散斑。本发明只需扫描电镜即可完成散斑的制备，样品制备散斑后不会对待测表面的其它信号采集造成干扰，可以同时满足材料SEM、EBSD等表征要求，实现了EBSD技术和DIC的有效结合。
基本信息
专利标题 ：
一种DIC散斑制备方法及金属材料微区局部应变表征方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114609168A
申请号 ：
CN202210270581.5
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
辛仁龙谭川舒小港
申请人 ：
重庆大学
申请人地址 ：
重庆市沙坪坝区沙正街174号
代理机构 ：
重庆博凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
李杰
优先权 ：
CN202210270581.5
主分类号 ：
G01N23/203
IPC分类号 ：
G01N23/203 G01N23/2202 G01B11/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射，例如，用于测试晶体结构；利用材料辐射的散射，例如测试非晶材料；利用材料辐射的反射
G01N23/203
测量背散射
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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