流体处理装置
公开
摘要
本发明提供一种流体处理装置，包括：配管，提供所述流体流动的路径；以及，至少一个光源模块，结合于所述配管并向所述配管内照射用于处理所述流体的光。所述配管包括具有使所述流体以第一流速流入的流入口的外管以及设置于所述外管内并具有使所述流体以与所述第一流速不同的流速流出的排出口的内管。
基本信息
专利标题 ：
流体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114620797A
申请号 ：
CN202210347784.X
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2018-07-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郑栽鹤郑相旭郑雄基崔载荣
申请人 ：
首尔伟傲世有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道安山市
代理机构 ：
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 ：
习瑞恒
优先权 ：
CN202210347784.X
主分类号 ：
C02F1/30
IPC分类号 ：
C02F1/30 C02F1/32 C02F1/72 A61L9/18 A61L9/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/30
辐射法
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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