光电异质异构集成工艺参数化基础单元模型构建方法
实质审查的生效
摘要

本公开涉及建模封装技术领域,提供一种光电异质异构集成工艺参数化基础单元模型构建方法,包括:分别建立各光电异质异构集成基础单元的参数化矩阵模型,其中,光电异质异构集成基础单元包括电驱动芯片、光学有源器件、光学无源器件、光电异质异构无源互连结构;根据光电异质异构集成系统的设计需求,调用各参数化矩阵模型,进行环境参数计算分析,搭建光电异质异构集成系统的仿真链路,得到光电异质异构集成系统。本公开在保障不同专业模型有效性和参数化的同时,考虑了环境因素,实现了基于模型的系统优化仿真分析,提升了光电异质异构集成设计能力和设计效率。

基本信息
专利标题 :
光电异质异构集成工艺参数化基础单元模型构建方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114462258A
申请号 :
CN202210379116.5
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2022-04-12
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘杰王皓岩叶雨农李苗李嵬汪志强戴扬
申请人 :
中国电子科技集团公司信息科学研究院
申请人地址 :
北京市海淀区四道口北街36号院4号楼
代理机构 :
北京中知法苑知识产权代理有限公司
代理人 :
李明
优先权 :
CN202210379116.5
主分类号 :
G06F30/20
IPC分类号 :
G06F30/20  G06F17/16  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/20
设计优化、验证或模拟
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/20
申请日 : 20220412
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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