高导电耐蚀非晶/纳米晶复合共存的涂层及其制法与应用
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种高导电耐蚀非晶/纳米晶复合共存的涂层及其制法与应用。所述制法包括:采用电弧离子镀复合高功率脉冲磁控溅射技术,以Cr靶作为电弧靶,以Al靶作为高功率脉冲磁控溅射靶,以甲烷为工作气体,在金属基体表面沉积形成Cr‑Al‑C层;以及,对沉积有所述Cr‑Al‑C层的金属基体进行真空低温热处理,制得高导电耐蚀非晶/纳米晶复合共存的涂层;其中所述涂层具有非晶结构与纳米晶结构,所述非晶结构为质厚条纹结构。本发明制备的涂层不仅提高了与基体之间的界面导电性,而且提高了耐腐蚀性,在苛刻环境中兼具优异的导电与耐腐蚀防护性能。

基本信息
专利标题 :
高导电耐蚀非晶/纳米晶复合共存的涂层及其制法与应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481048A
申请号 :
CN202210394609.6
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-04-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
汪爱英马冠水袁江淮王振玉王丽
申请人 :
中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请人地址 :
浙江省宁波市镇海区庄市大道519号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202210394609.6
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32  C23C14/35  C23C14/06  C23C14/58  H01M8/0228  H01M8/0208  B82Y30/00  B82Y40/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/32
申请日 : 20220415
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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