适用于新型双源混检式通道式安检系统的同光源设置方法
公开
摘要
本发明涉及适用于新型双源混检式通道式安检系统的同光源设置方法，通过在背散射和透射光源之间位置放置一个X光机代替散射X光机和透射X光机，同时考虑背散射和透射探测器所需光源能量的不同，对X光机的能量数值进行调节，在透射探测器表面增加射线透镜，提高透射探测器接收的能量值，在透射探测器表面增加散射光源滤镜，降低透射探测器接收的能量值，实现了背散射和透射使用同光源的目的，避免了因为双光源导致的干扰，以及图像噪点的增加，无法进行图像识别等问题。
基本信息
专利标题 ：
适用于新型双源混检式通道式安检系统的同光源设置方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114624785A
申请号 ：
CN202210525505.4
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-05-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
雷铭丁宏毅马晓晨
申请人 ：
天津速通科技有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区华苑产业区工华道2号天津国际珠宝城1号楼-3-504-4
代理机构 ：
天津盛理知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘玲
优先权 ：
CN202210525505.4
主分类号 ：
G01V5/00
IPC分类号 ：
G01V5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01V
地球物理；重力测量；物质或物体的探测；示踪物
G01V5/00
应用核辐射进行勘探或探测，例如，利用天然的或诱导的放射性
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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