一种紫外LED双光谱光源
授权
摘要
本实用新型涉及一种紫外LED双光谱光源，包括固定板、底座、连接支架、传动气缸及聚焦透镜支架，底座固定在固定板上，传动气缸固定在底座上，连接支架与传动气缸固定连接，聚焦透镜支架与固定板连接，聚焦透镜支架相对固定板滑动，传动气缸运动带动聚焦透镜支架移动，连接支架上设置有第一凸定位块及第二凸定位块，聚焦透镜支架上设置有第一凹定位块及第二凹定位块，当传动气缸向第一凸定位块方向运动时，第一凸定位块与第一凹定位块卡合连接，当传动气缸向第二凸定位块方向运动时，第二凸定位块与第二凹定位块卡合连接。本实用新型的有益效果是：本实用新型通过传动气缸运动带动聚焦透镜支架移动，使发出两种不同光谱的曝光光源，有效降低成本。
基本信息
专利标题 ：
一种紫外LED双光谱光源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220156422.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-20
授权号 ：
CN216748438U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
兰卫国
申请人 ：
深圳优卫乐得科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区西乡街道三围航空路30号A栋228
代理机构 ：
深圳市中兴达专利代理有限公司
代理人 ：
黄美玲
优先权 ：
CN202220156422.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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