本实用新型公开了一种电镀用杂质清除装置，包括自调节机构和喷淋机构，自调节机构包括设置在电镀机上的支撑座、相对滑动设置在支撑座上且均能转动的主导电辊和辅助导电辊，喷淋机构包括滑动设置在支撑座上的喷淋座、对称设置在喷淋座上的回收部、喷淋部和设置在电镀机上且与喷淋部连接并用于驱动喷淋部作业的动力源，回收部位于喷淋部的正下方且主导电辊、辅助导电辊均位于回收部和喷淋部之间，本实用新型的目的在于提供一种电镀用杂质清除装置，主导电辊和辅助导电辊配合使用，方便对主导电辊或辅助导电辊单体杂质，代替人工，有效提高清除杂质的效率；同时还实现电镀机不间断作业。