高压铝阳极箔的两步电化学和化学蚀刻法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
具有高立方结构的铝电解电容器阳极箔，用两步法进行蚀刻。首先，在75℃温度和直流电作用之下，用含有3％盐酸和1％铝(以氯化铝形式)的电解质浴处理铝箔，然后在第二步用含有8％硝酸和2.6％铝(以硝酸铝形式)的水溶液中，在85℃温度下将所说的蚀刻后的铝箔处理4-7分钟。用这种方法蚀刻后得到的铝箔，由于具有更高的沟道密度、伸长的沟道和呈完好直线型沟道结构而具有高得多的电容值。
基本信息
专利标题 ：
高压铝阳极箔的两步电化学和化学蚀刻法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85101034A
申请号 ：
CN85101034.2
公开（公告）日 ：
1987-01-10
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
CN1006001B
授权日 ：
1989-12-06
发明人 ：
阿罗拉
申请人 ：
菲利蒲(北美)有限公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
杨九昌
优先权 ：
CN85101034.2
主分类号 ：
C25F3/04
IPC分类号 ：
C25F3/04 C23F1/20 H01G9/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/02
浸蚀
C25F3/04
轻金属的
法律状态
1993-08-04 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1990-08-22 ：
授权
1989-12-06 ：
审定
1987-01-10 ：
公开
1986-10-15 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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