高压铝阳极箔的两步电化学和化学蚀刻法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
具有高立方结构的铝电解电容器阳极箔,用两步法进行蚀刻。首先,在75℃温度和直流电作用之下,用含有3%盐酸和1%铝(以氯化铝形式)的电解质浴处理铝箔,然后在第二步用含有8%硝酸和2.6%铝(以硝酸铝形式)的水溶液中,在85℃温度下将所说的蚀刻后的铝箔处理4-7分钟。用这种方法蚀刻后得到的铝箔,由于具有更高的沟道密度、伸长的沟道和呈完好直线型沟道结构而具有高得多的电容值。
基本信息
专利标题 :
高压铝阳极箔的两步电化学和化学蚀刻法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN85101034A
申请号 :
CN85101034.2
公开(公告)日 :
1987-01-10
申请日 :
1985-04-01
授权号 :
CN1006001B
授权日 :
1989-12-06
发明人 :
阿罗拉
申请人 :
菲利蒲(北美)有限公司
申请人地址 :
美国纽约
代理机构 :
中国专利代理有限公司
代理人 :
杨九昌
优先权 :
CN85101034.2
主分类号 :
C25F3/04
IPC分类号 :
C25F3/04 C23F1/20 H01G9/04
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法;其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/02
浸蚀
C25F3/04
轻金属的
法律状态
1993-08-04 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
1990-08-22 :
授权
1989-12-06 :
审定
1987-01-10 :
公开
1986-10-15 :
实质审查请求
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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