高压铝阳极箔两步电化学蚀刻方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
使用两步方法蚀刻高立方结构的铝电解电容器阳极箔，通过在一含有3(重量)％盐酸和1(重量)％以氯化铝形式的铝的电解液中，在高电流密度的直流电作用下，于温度75℃处理该箔，并在第二步中在一类似的电解液中，用低得多的电流密度和在温度80°～82.5℃下处理所述蚀刻的箔。这样蚀刻的箔具有由较高沟道密度产生的高得多的电容以及完全直线形的沟道结构。
基本信息
专利标题 ：
高压铝阳极箔两步电化学蚀刻方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85101035A
申请号 ：
CN85101035.0
公开（公告）日 ：
1987-01-10
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
CN1005198B
授权日 ：
1989-09-20
发明人 ：
阿罗拉
申请人 ：
菲利蒲(北美)有限公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
曹恒兴
优先权 ：
CN85101035.0
主分类号 ：
C25F3/04
IPC分类号 ：
C25F3/04 H01G9/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/02
浸蚀
C25F3/04
轻金属的
法律状态
1993-08-04 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1990-06-06 ：
授权
1989-09-20 ：
审定
1987-01-10 ：
公开
1986-10-15 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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