带无机物层离子膜的制备及其电解应用
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明提供的制备带无机物层的离子膜的方法是一种电化学沉积方法。根据本方法，当离子膜上发生水分裂现象时，电解液中的钛等无机物以难溶物的形式均匀、牢固地沉积于离子膜表面上，特别是离子膜的向阴极面上。在工业电解过程中，特别是在氯碱电槽中，上述表面可以和阴极和阳极相紧贴，实现“零极距”电解，使槽电压有较大辐度的降低。
基本信息
专利标题 ：
带无机物层离子膜的制备及其电解应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85102088A
申请号 ：
CN85102088.7
公开（公告）日 ：
1986-03-10
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
CN85102088B
授权日 ：
1988-12-07
发明人 ：
李家麟王慧中宁远谋
申请人 ：
华中师范学院
申请人地址 ：
中国湖北省武汉市武昌桂子山
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN85102088.7
主分类号 ：
C25B13/00
IPC分类号 ：
C25B13/00 C25B1/46
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25B
生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备
C25B13/00
隔膜；间隔元件
法律状态
1994-02-09 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1989-09-27 ：
授权
1988-12-07 ：
审定
1985-10-10 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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