光学纤维的气密涂层
视为撤回的专利申请
摘要
对于刚刚从光学预制件拉制出的一种光纤提供两层外部气密涂层。初始涂层是用例如一种非均匀核化的热化学沉积(HNTD)法所提供的一种金属涂层。此种HNTD法是使光纤通过一个含有一种气体介质的反应区。此种气体介质包含有一种反应物或几种反应物的混合物，反应物在预定温度下分解，混合物在预定温度下反应。而形成涂层材料。第二种涂层是通过将光纤浸没于含液体介质的沉积浴来提供，此液体介质至少含有一种反应物，能沉积的初始涂层上来形成二次涂层。
基本信息
专利标题 ：
光学纤维的气密涂层
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85104315A
申请号 ：
CN85104315.1
公开（公告）日 ：
1986-12-03
申请日 ：
1985-06-07
授权号 ：
CN1008360B
授权日 ：
1990-06-13
发明人 ：
蒂帕克·兰简·比斯瓦斯萨泰亚布拉特·雷昌德赫里S·W·罗恩诺克N·W·罗恩诺克
申请人 ：
阿尔克特尔公司
申请人地址 ：
美国纽约州纽约10022帕克大街320号
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
王宪模
优先权 ：
CN85104315.1
主分类号 ：
C03C25/04
IPC分类号 ：
C03C25/04 G02B6/02
法律状态
1991-09-11 ：
视为撤回的专利申请
1990-06-13 ：
审定
1988-10-12 ：
实质审查请求
1986-12-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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