光学纤维的气密涂层方法
被视为撤回的申请
摘要
对刚从光学预制件拉出的一种光纤提供两层外部气密涂层。初始涂层是用一种非均匀核化的热化学沉积(HNTD)法，来实现的一种金属或介质涂层。该法使光纤通过一含有一种气体介质的反应区，此介质含有一或几种反应物的混合物。在一预定温度下，前者分解生成而后者反应形成涂层材料。这种预定温度可从光纤制造中保持的热量来获得，该热量通过一种隔热件将其保持在光纤的表面，从而不需附设加热装置。可采用如HNTD法或化学汽相沉积法来沉积第二层涂层。
基本信息
专利标题 ：
光学纤维的气密涂层方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85104312A
申请号 ：
CN85104312
公开（公告）日 ：
1986-12-03
申请日 ：
1985-06-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蒂帕克·兰简·比斯瓦斯萨泰亚布拉特·雷昌德赫里S·W·罗恩诺克N·W·罗恩诺克
申请人 ：
国际标准电器公司
申请人地址 ：
美国纽约州纽约10022帕克大街320号
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
王宪模
优先权 ：
CN85104312
主分类号 ：
C03C25/02
IPC分类号 ：
C03C25/02
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法律状态
1989-03-08 ：
被视为撤回的申请
1986-12-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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