状态分析的方法和装置
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
样品中元素状态的分析方法由下列几步组成：首先用一个激发源去照射元素；然后在两个预先选择的波长处探测测量点产生的特征X射线的强度，这两个波长的选择是根据所分析的元素状态决定的；对于一些测量是比较它们在两个波长上的特征X射线强度比，以便提供落在根据元素状态选择的探测范围中所测到的强度比；仅仅对这些测量点输出状态探测信号以使获得一个线性分析或二维扫描图象。
基本信息
专利标题 ：
状态分析的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85104863A
申请号 ：
CN85104863.3
公开（公告）日 ：
1986-12-31
申请日 ：
1985-06-25
授权号 ：
CN85104863B
授权日 ：
1988-05-04
发明人 ：
副岛启义
申请人 ：
株式会社岛津制作所
申请人地址 ：
日本京都市中京区
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
吴磊
优先权 ：
CN85104863.3
主分类号 ：
G01N23/225
IPC分类号 ：
G01N23/225 H01J37/252
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/225
利用电子或离子微探针
法律状态
2001-02-14 ：
专利权的终止专利权有效期届满
1989-01-04 ：
授权
1988-05-04 ：
审定
1986-12-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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