光学信息记录材料及其制造方法
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
一种光学记录材料，它由基板及涂敷在基板上的薄膜光敏层组成。当光敏层被光能照射时，它的状态可在低光密度态和高光密度态之间变化。光敏层由碲-钯-氧(Te-Pd-O)构成。其中，钯的原子数比为5～40％(原子百分比)，氧占20～60％。结果，可得到一种对光能照射高速响应的光学记录材料。该光学记录材料可采用二源蒸镀源方式制作。其中一个源是钯，另一个源是TeO2及作为还原剂的金属粉末的烧结物。
基本信息
专利标题 ：
光学信息记录材料及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85105409A
申请号 ：
CN85105409.9
公开（公告）日 ：
1987-01-14
申请日 ：
1985-07-15
授权号 ：
CN1008224B
授权日 ：
1990-05-30
发明人 ：
木村邦夫高尾正敏赤平信夫竹永睦生
申请人 ：
松下电器产业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府门真市大字门真1006番地
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
叶凯东
优先权 ：
CN85105409.9
主分类号 ：
G11B7/24
IPC分类号 ：
G11B7/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B7/00
用光学方法，例如，用光辐射的热射束记录用低功率光束重现的；为此所用的记录载体
G11B7/24
按形状、结构或物理特性或所选用的材料区分的记录载体
法律状态
2001-03-07 ：
专利权的终止专利权有效期届满
1991-02-06 ：
授权
1990-05-30 ：
审定
1988-11-09 ：
实质审查请求
1987-01-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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