吲哚盐类静电照相材料制造方法
视为撤回的专利申请
摘要
本发明涉及吲哚盐类静电照相材料的制造方法。2，3，3-三甲基-3H-吲哚盐与α，β-不饱和酮或1，5-二芳基-1，4-戊二烯-3-酮在异戊醇中相互作用时生成取代的吡啶并[1，2-a]-3H-吲哚盐。后者可用作静电照相材料。
基本信息
专利标题 ：
吲哚盐类静电照相材料制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85109576A
申请号 ：
CN85109576.3
公开（公告）日 ：
1987-07-08
申请日 ：
1985-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘志杰
申请人 ：
西北大学
申请人地址 ：
陕西省西安市小南门外
代理机构 ：
西北大学专利事务所
代理人 ：
王贵林
优先权 ：
CN85109576.3
主分类号 ：
C07D471/04
IPC分类号 ：
C07D471/04 G03G5/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D471/00
在稠环系中含有氮原子作为仅有的杂环原子、其中至少1个环是含有1个氮原子的六元环的杂环化合物，C07D451/00至C07D463/00不包括的
C07D471/02
在稠环系中含两个杂环
C07D471/04
邻位稠环系
法律状态
1991-11-13 ：
视为撤回的专利申请
1988-02-03 ：
实质审查请求
1987-07-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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