高强度发射装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种高强度发射源，利用涡流发生构件在电弧室内表面上形成-液体涡流壁，以限制电极间产生的电弧的直径。该涡流发生构件包括一个液体进入电弧室前必须先经过的环形限制构件，其尺寸足以使电弧室内有足够的压力和速度，以减少或消除可能传输至电弧室内液壁的流动不规则的现象，可装一喷嘴以产生液体和气体所需的轴向涡流流型。邻近电弧室的排放室均匀变细，以防止干扰流动。电极上的翘片用于减少电弧室内的反向气体、液体流。
基本信息
专利标题 ：
高强度发射装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85109598A
申请号 ：
CN85109598.4
公开（公告）日 ：
1986-07-16
申请日 ：
1985-12-23
授权号 ：
CN1007561B
授权日 ：
1990-04-11
发明人 ：
戴维·姆·卡姆尼古拉斯庇·哈尔平安东尼杰·第·豪斯顿阿恩舍维尔
申请人 ：
沃泰克工业有限公司
申请人地址 ：
加拿大温哥华市潘达拉街1820号
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
关定毅
优先权 ：
CN85109598.4
主分类号 ：
H01J61/52
IPC分类号 ：
H01J61/52 H01J61/28 H01J61/84
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J61/00
气体放电或蒸气放电灯
H01J61/02
零部件
H01J61/52
冷却装置；加热装置；放电空间中气体或蒸气的循环装置
法律状态
1996-02-07 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1990-11-28 ：
授权
1990-04-11 ：
审定
1988-06-08 ：
实质审查请求
1986-07-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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