电子显微镜制样用真空镀膜机
专利权的终止
摘要
一种用于制备电子显微镜样品的真空镀膜机。目前国内外上述用途的真空镀膜机都只能用电阻法加热投影重金属，电阻法不能有效地蒸发钨、铂等难蒸发材料。为解决钨和铂的蒸发问题，采用在现有的真空镀膜机中安装一个低加速电压、小功率的电子枪，达到了有效地蒸发钨和铂的目的。采用钨投影的电子显微镜样品的分辨率比用铬投影高出四倍；用此法进行铂投影比电阻法铂——碳投影有操作简便，成功率高、对样品的热损伤小等优点。
基本信息
专利标题 ：
电子显微镜制样用真空镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN85202348.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1985-06-13
授权号 ：
CN85202348U
授权日 ：
1986-05-28
发明人 ：
周贤才
申请人 ：
南昌航空学院
申请人地址 ：
江西省南昌市上海路二号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN85202348.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
1989-11-29 ：
专利权的终止
终止日 : 19860528
1986-12-10 ：
授权
1986-05-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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