新型青霉烯化合物的制备方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
式(I)所示青霉烯及其药用盐的制备方法。(I)中R为H或含卤原子或OH的C1-C4烷基，OH可视具体情况而被保护，A为Z，ZOCO或ZCO，Z为任意取代的亚苯基，亚萘基，亚杂环基，C1-C7亚烷基，C2-C4亚烯基，亚炔基，C3-C8亚环烷基，亚芳烷基，Q为
R1，R2和R3为(i)视具体情况而被取代的烷基、芳烷基或芳基；(ii)R1与(i)同，R2、R3连结为视具体情况而被取代的稠合杂环；(iii)三者连结为视具体情况而被取代偶氮双环或三环；(iv)三者连结为视具体情况而被取代的稠合吡啶鎓、吡嗪鎓、吡唑鎓或哒嗪鎓阳离子。
基本信息
专利标题 ：
新型青霉烯化合物的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86102350A
申请号 ：
CN86102350.1
公开（公告）日 ：
1986-12-31
申请日 ：
1986-04-08
授权号 ：
CN1021735C
授权日 ：
1993-08-04
发明人 ：
埃托里·普罗尼马科·阿尔普吉尼安盖洛·比德奇弗科·萨里尼吉奥瓦尼·弗朗塞奇科斯坦蒂诺·戴拉·布鲁纳
申请人 ：
法米塔利亚·卡洛·埃巴有限责任公司
申请人地址 ：
意大利米兰24-20159
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
王杰
优先权 ：
CN86102350.1
主分类号 ：
C07D499/86
IPC分类号 ：
C07D499/86 A61K31/43
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D499/00
杂环化合物，含有4-硫杂-1-氮杂双环庚烷环系，即含有下式环系的化合物，例如，青霉素，青霉烯；这类环系进一步稠合，例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499/86
只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6，3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子，例如酯基或氰基，直接连在位置2
法律状态
1998-06-03 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-08-04 ：
授权
1986-12-31 ：
公开
1986-10-08 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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