含有环状氟化磺酸盐表面活性剂蚀刻溶液
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
本发明提供了具有可溶性表面添加剂的二氧化硅蚀刻溶液。改进的二氧化硅蚀刻剂是由把可溶性表面添加剂添加到集成电路制作中的标准的氧化物蚀刻剂中而获得的。本发明的有效表面活性剂称为氟化环烷烃磺酸盐和氟化环烯烃磺酸盐，一般式如下：式中：X是F、H、CI、OH、SO3A或R，Y是F、H、OH、R或略去，从而给予双键；其中R是1-4氟烷基；其中n值小于等于6。A表示阳离子组，可以是NH4+、H+、Na+、K+、Li+、R+或有机胺阳离子。
基本信息
专利标题 ：
含有环状氟化磺酸盐表面活性剂蚀刻溶液
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86103055A
申请号 ：
CN86103055.9
公开（公告）日 ：
1986-11-26
申请日 ：
1986-04-29
授权号 ：
CN1012071B
授权日 ：
1991-03-20
发明人 ：
罗纳德·詹姆斯·霍普金斯伊万·高尔·汤姆斯哈罗德·约翰·基塔
申请人 ：
阿兰德公司
申请人地址 ：
美国新泽西州07960-2245莫瑞斯镇2245信箱
代理机构 ：
上海专利事务所
代理人 ：
全永留
优先权 ：
CN86103055.9
主分类号 ：
C09K13/00
IPC分类号 ：
C09K13/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K13/00
蚀刻，表面光亮或浸蚀组合物
法律状态
2001-12-19 ：
专利权的终止专利权有效期届满
1991-10-16 ：
授权
1991-03-20 ：
审定
1988-09-21 ：
实质审查请求
1986-11-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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