新的噻唑化合物的制备方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
制备下列化学式噻唑化合物或其盐的方法：其中R1是可以具有任意合适取代基的氨基，R2是氢、低级烷基或芳基，R3是氢、硝基、可以，具有任意合适取代基的氨基、羟基或低级烷氧基，A是低级链烯基，Q是氢或卤素，和粗实线意思是指单链或双键。
基本信息
专利标题 ：
新的噻唑化合物的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86108205A
申请号 ：
CN86108205.2
公开（公告）日 ：
1987-06-17
申请日 ：
1986-12-05
授权号 ：
CN1017707B
授权日 ：
1992-08-05
发明人 ：
植田育男松尾昌昭真锅孝司松田博
申请人 ：
藤沢药品工业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪市
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
马崇德
优先权 ：
CN86108205.2
主分类号 ：
C07D417/14
IPC分类号 ：
C07D417/14 C07D401/04 A61K31/425 A61K31/445
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D417/00
杂环化合物，含两个或更多个杂环、至少有1个环有氮原子和硫原子作为仅有的杂环原子，C07D415/00组不包含的
C07D417/14
含有3个或更多个杂环
法律状态
1996-01-24 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-05-26 ：
授权
1992-08-05 ：
审定
1987-06-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
