制备氮杂环烷烃衍生物的方法
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
制备式(I)所示衍生物的方法，其特征在于在0-300℃下，在溶剂中和在碱催化剂或间界层转换催化剂存在下处理环状化合物(II)，生成化合物(III)，用式X(CH2)nX的烷基卤处理化合物(III)，生成化含物(IV)，然后在0-300℃下，在溶剂中和在脱卤剂或碱催化剂存在下，用硫醇或醇处理化合物(IV)，从而制得氟杂环烷烃衍生物(I)。式中各取代基定义见说明书。
基本信息
专利标题 ：
制备氮杂环烷烃衍生物的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87100666A
申请号 ：
CN87100666.9
公开（公告）日 ：
1987-10-21
申请日 ：
1987-02-12
授权号 ：
CN1018452B
授权日 ：
1992-09-30
发明人 ：
辻正义井上寿孝八谷照美中岛幹夫下园雄治境美智顺中川晃
申请人 ：
久光制药株式会社
申请人地址 ：
日本佐贺县
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
穆德俊
优先权 ：
CN87100666.9
主分类号 ：
C07D207/27
IPC分类号 ：
C07D207/27 C07D227/087 A61K31/40
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D207/00
杂环化合物，含五元环，不与其他环稠合，带1个氮原子作为惟一的环杂原
C07D207/02
只有氢或碳原子直接连在环氮原子上
C07D207/18
环原子间或环原子与非环原子间有1个双键
C07D207/22
有杂原子或有以3个键连杂原子、其中最多以1个键连卤素的碳原子，例如，酯基或腈基，直接连在环碳原子上
C07D207/24
氧或硫原子
C07D207/26
2-吡咯烷酮
C07D207/263
只有氢原子或只含氢和碳原子的基直接连在其他环碳原子上
C07D207/27
有取代烃基直接连在环氮原子上
法律状态
2007-10-10 ：
专利权的终止专利权有效期届满
2002-03-20 ：
其他有关事项
1993-06-30 ：
授权
1992-09-30 ：
审定
1988-05-04 ：
实质审查请求
1987-10-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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