发射光谱的表观浓度法
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
本发明属于一种原子发射光谱定量测定金属样品中多元素的方法，特别适合于钢铁样品的分析。本方法特征是以表观浓度作为光谱分析中的中间目标量，建立了表观浓度和真实浓度之间的数学计算方法。日常分析中用普通标样建立表观浓度工作曲线，分析未知样品先获得目标元素的表观浓度，再求得真实浓度。本方法能综合校正共存元素干扰和基体浓度变化的影响，提高分析精密度和准确度，简化分析多品种金属样品的手续，提高分析速度，可分析碳钢、中低合金钢和不锈钢样品中的20种元素。
基本信息
专利标题 ：
发射光谱的表观浓度法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87103303A
申请号 ：
CN87103303.8
公开（公告）日 ：
1987-11-18
申请日 ：
1987-04-30
授权号 ：
CN1004580B
授权日 ：
1989-06-21
发明人 ：
姚泰煜
申请人 ：
四川省自贡市铸钢厂
申请人地址 ：
四川省自贡市马鞍山
代理机构 ：
四川省自贡市专利事务所
代理人 ：
黄道和
优先权 ：
CN87103303.8
主分类号 ：
G01N21/63
IPC分类号 ：
G01N21/63
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
法律状态
1992-09-02 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1990-06-13 ：
授权
1989-06-21 ：
审定
1988-01-20 ：
实质审查请求
1987-11-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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