薄膜真空喷镀装置
专利申请的视为撤回
摘要
薄膜真空喷镀装置含一个其中装好喷镀材料(10)的喷镀材料蒸发室(1)，在此室的外面布置着加热元件(2)。准直室(3)与蒸发室(1)通联，并且它们的结构相同。这两室(1、3)中的每一室均制作着布置在同一水平中心线(8)上的两个孔(4、5)。在其中的一个孔中装一个管接头(6、7)，蒸发室(1)的管接头(6)装在准直室(3)的孔(5)中，而蒸发室(1)本身备有一个装在此室(1)另一孔(4)的密封元件(9)。
基本信息
专利标题 ：
薄膜真空喷镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1038129A
申请号 ：
CN89103427.7
公开（公告）日 ：
1989-12-20
申请日 ：
1989-05-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
乔治·季莫费维契·列夫钦柯阿拉先德·纳考拉威赤拉夫赤思考
申请人 ：
基也辅综合技术研究所
申请人地址 ：
苏联基也辅
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
薛明祖
优先权 ：
CN89103427.7
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
1993-05-05 ：
专利申请的视为撤回
1991-12-11 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1991-09-04 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1989-12-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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