防蚀双层减反射膜
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明公开了一种防蚀双层减反射膜，其特征是采用HfO2或Y2O3或94-80％重量比的HfO2与6-20％重量比的Y2O3作为高折射率的多层减反射膜。采用本发明可避免与含Pb，Ba，Cd成分的光学玻璃发生化学反应而腐蚀膜层坚硬牢固，光学特性稳定，重复性好，制备工艺简单，容易移植，HfO2，Y2O3材料价廉易于从市场获得。
基本信息
专利标题 ：
防蚀双层减反射膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1049059A
申请号 ：
CN89106212.2
公开（公告）日 ：
1991-02-06
申请日 ：
1989-07-25
授权号 ：
CN1016104B
授权日 ：
1992-04-01
发明人 ：
顾培夫何孟权
申请人 ：
浙江大学
申请人地址 ：
310000浙江省杭州市玉泉
代理机构 ：
浙江大学专利代理事务所
代理人 ：
张法高
优先权 ：
CN89106212.2
主分类号 ：
G02B1/10
IPC分类号 ：
G02B1/10 G02B5/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
法律状态
1994-09-14 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-01-06 ：
授权
1992-04-01 ：
审定
1991-02-06 ：
公开
1989-12-27 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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