冲击波聚焦装置
专利申请的视为撤回
摘要

一种冲击波聚焦装置,包括脉冲激光器1、盛有对激光辐射透明的介质和箱2以及使激光辐射和球面冲击波聚焦的器件3,该器件是由对激光辐射透明的材料制成的凹凸镜片,它有两个曲率半径不同的表面4、5,而且用来使球面冲击波聚焦的表面4呈凹状。在一种方案中,凹表面4对着激光器1,而凸表面5上有反射激光辐射的镀层6。在另一种实施方案中,凸表面5对着激光器1。

基本信息
专利标题 :
冲击波聚焦装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1050265A
申请号 :
CN89107114.8
公开(公告)日 :
1991-03-27
申请日 :
1989-09-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
加丽娜·瓦莱里亚诺夫娜·德里墩尤里·伊萨维奇·奥斯特诺夫斯基亚历山大·米哈伊诺维奇·萨姆索诺夫尹丽娜·弗拉基米诺芙娜·萨姆诺娃芙琳娜·维塔丽芙娜·索古林斯卡亚
申请人 :
苏联科学院A.F.尹奥菲物理技术研究所
申请人地址 :
苏联列宁格勒
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 :
刘建国
优先权 :
CN89107114.8
主分类号 :
G02B7/04
IPC分类号 :
G02B7/04  G02B19/00  A61B17/22  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B7/00
光学元件的安装、调整装置或不漏光连接
G02B7/02
用于透镜
G02B7/04
有聚焦或改变放大率的机构
法律状态
1993-01-20 :
专利申请的视为撤回
1991-03-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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