多室连续处理设备的空间气体隔离装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本实用新型涉及一种用于多室连续处理设备的空间气体隔离装置。该装置包括至少一个低气压隔离室,数目等于所述隔离室数目加1的狭缝通道以及在所述隔离室上设置的抽气管道和惰性气体供气管道。抽气管道通过截止阀与抽真空系统相联。惰性气体供气管道通过节流阀、截止阀与惰性气源相联。本实用新型的气体隔离装置克服了处理室之间气体的相互掺杂以及难以保证工作气体在处理室中的均匀性等弊病,同时具有操作简便、工作可靠的优点。
基本信息
专利标题 :
多室连续处理设备的空间气体隔离装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN89206896.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
1989-05-06
授权号 :
CN2067711U
授权日 :
1990-12-19
发明人 :
徐洪福程如光
申请人 :
中科院上海硅酸盐研究所
申请人地址 :
上海市长宁区长宁路865号
代理机构 :
中国科学院上海专利事务所
代理人 :
聂淑仪
优先权 :
CN89206896.5
主分类号 :
C23C16/54
IPC分类号 :
C23C16/54 C23C14/56 C30B31/16
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
1993-09-01 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
1991-07-24 :
授权
1990-12-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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