铁谱片光密度测量仪
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本实用新型涉及光密度测量仪，主要用于机械设备运动副磨损工况的监测，以及各种磨损机制的分析和研究。已有的光密度测量仪油样杂质多，颗粒重叠现象严重，随机误差大。本测量仪在平行光源和聚光透镜之间设置了谱片架和与平行光束垂直的可移光栏，光电传感器置于聚光透镜外侧的焦点上，光阑的透光圆环与谱片的颗粒沉淀圆环直径相同且各圆环的轴线均平行于平行光束。本仪器测试精度高，操作简便直观，可以同时测出磨损程度和速率，便于推广应用。
基本信息
专利标题 ：
铁谱片光密度测量仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN89218549.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1989-10-24
授权号 ：
CN2057755U
授权日 ：
1990-05-30
发明人 ：
金锡志陈德金毛丹碧
申请人 ：
杭州轴承试验研究中心
申请人地址 ：
浙江省杭州市石桥路杭州轴承试验研究中心310022
代理机构 ：
杭州市专利事务所
代理人 ：
陈长泉
优先权 ：
CN89218549.X
主分类号 ：
G01N21/84
IPC分类号 ：
G01N21/84
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
1994-12-14 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1991-01-23 ：
授权
1990-05-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
