四氢苯并咪唑衍生物的制备方法

专利权的终止

摘要

本发明涉及一种制备由结构式(I)表示的四氢苯并咪唑衍生物或其在药学上可接受的盐的方法，式中Het代表可由选自由低级烷基基团、低级链烯基基团、低级炔基基团、环烷基-低级烷基基团、芳烷基基团、低级烷氧基基团、硝基基团、羟基基团、低级烷氧基羰基基团和卤素原子构成的组的1至3个取代基取代的杂环基团；X代表结合到杂环的碳原子或氮原子上的单键或-NH-。结构式为(I)的化合物及其盐对5-HT3接受体表现出拮抗性。

基本信息

专利标题：

四氢苯并咪唑衍生物的制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1045583A

申请号：

CN90100544.4

公开（公告）日：

1990-09-26

申请日：

1990-02-02

授权号：

CN1030252C

授权日：

1995-11-15

发明人：

太田光昭小出德雄铃木健师松久彰宫田桂司大森淳弥柳尺勳

申请人：

山之内制药株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

上海专利商标事务所

代理人：

吴俊

优先权：

CN90100544.4

主分类号：

C07D403/12

IPC分类号：

C07D403/12 C07D403/06 A61K31/415