咪唑并吡啶的制备及其应用
视为撤回的专利申请
摘要

本发明涉及具有式(I)的化合物或其盐。式(I)中,B为可被取代的咪唑并(1,2,-a)吡啶-2-基基团,Q为氰基或具有式的基团(其中A为氧或硫原子或具有式-NR1-(其中R1为氢原子或低级烷基)的基团,R为氢原子、可被取代的烃基或可被取代的杂环基)。该化合物可作为选择性除草剂使用。本发明还涉及该化合物的制备和应用。

基本信息
专利标题 :
咪唑并吡啶的制备及其应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1045782A
申请号 :
CN90100789.7
公开(公告)日 :
1990-10-03
申请日 :
1990-02-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
大端霞成石田安雄良川春东
申请人 :
武田药品工业株式会社
申请人地址 :
日本大阪
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 :
周中琦
优先权 :
CN90100789.7
主分类号 :
C07D471/04
IPC分类号 :
C07D471/04  A01N43/90  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D471/00
在稠环系中含有氮原子作为仅有的杂环原子、其中至少1个环是含有1个氮原子的六元环的杂环化合物,C07D451/00至C07D463/00不包括的
C07D471/02
在稠环系中含两个杂环
C07D471/04
邻位稠环系
法律状态
1992-12-02 :
视为撤回的专利申请
1990-10-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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